硅片等離子清洗機(jī)
文章導(dǎo)讀：硅片等離子清洗機(jī)主要用于處理硅片材料的表面處理設(shè)備，解決硅片在生產(chǎn)制造過程中沾染的污染物，如：有機(jī)污染物、無機(jī)鹽、金屬離子、機(jī)械微辣等；同時提供表面改性的效果，有利于后續(xù)工藝處理。
硅片等離子清洗機(jī)主要用于處理硅片材料的表面處理設(shè)備，解決硅片在生產(chǎn)制造過程中沾染的污染物，如：有機(jī)污染物、無機(jī)鹽、金屬離子、機(jī)械微辣等；同時提供表面改性的效果，有利于后續(xù)工藝處理。
硅片等離子清洗機(jī)組成
真空室：放置需要清洗的硅片，是等離子清洗的實際操作區(qū)域；
真空系統(tǒng)：包括真空泵和各種真空閥門、計量儀器等，用于將真空室內(nèi)的壓力降低到所需范圍內(nèi)；
等離子發(fā)生器：設(shè)備核心部件，產(chǎn)生等離子體的重要設(shè)備；
氣體控制系統(tǒng)：用于控制氣體的流量、壓力等參數(shù)；
控制系統(tǒng)：控制系統(tǒng)用于控制設(shè)備的運行狀態(tài)和參數(shù)設(shè)置。
硅片等離子清洗機(jī)流程
1、硅片放置：將需要清洗的硅片放置在真空室內(nèi)；
2、真空處理：使用真空泵將真空室內(nèi)的壓力降低到一定程度；
3、加氣體：通過氣體控制系統(tǒng)加入氫氣、氮氣等氣體，使其在等離子發(fā)生器的作用下轉(zhuǎn)化為等離子體。
4、清洗：等離子體中的離子和自由基與硅片表面發(fā)生反應(yīng)，可以去除表面的污染物和氧化層等。
5、氣體清除：清洗結(jié)束后，通過氣體控制系統(tǒng)排出氫氣、氮氣等氣體，避免對硅片造成影響。
6、通氣：使用真空泵將真空室內(nèi)的氣體排出，恢復(fù)環(huán)境壓強(qiáng)。
7、取出硅片：將清洗完的硅片取出。
硅片等離子清洗機(jī)目前得到了廣泛應(yīng)用，在半導(dǎo)體制造的各個階段都能提供幫助，解決表面處理的難題。
真空室：放置需要清洗的硅片，是等離子清洗的實際操作區(qū)域；
真空系統(tǒng)：包括真空泵和各種真空閥門、計量儀器等，用于將真空室內(nèi)的壓力降低到所需范圍內(nèi)；
等離子發(fā)生器：設(shè)備核心部件，產(chǎn)生等離子體的重要設(shè)備；
氣體控制系統(tǒng)：用于控制氣體的流量、壓力等參數(shù)；
控制系統(tǒng)：控制系統(tǒng)用于控制設(shè)備的運行狀態(tài)和參數(shù)設(shè)置。
1、硅片放置：將需要清洗的硅片放置在真空室內(nèi)；
2、真空處理：使用真空泵將真空室內(nèi)的壓力降低到一定程度；
3、加氣體：通過氣體控制系統(tǒng)加入氫氣、氮氣等氣體，使其在等離子發(fā)生器的作用下轉(zhuǎn)化為等離子體。
4、清洗：等離子體中的離子和自由基與硅片表面發(fā)生反應(yīng)，可以去除表面的污染物和氧化層等。
5、氣體清除：清洗結(jié)束后，通過氣體控制系統(tǒng)排出氫氣、氮氣等氣體，避免對硅片造成影響。
6、通氣：使用真空泵將真空室內(nèi)的氣體排出，恢復(fù)環(huán)境壓強(qiáng)。
7、取出硅片：將清洗完的硅片取出。
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