滿足半導體封裝多項要求的等離子清洗機設備
文章導讀：半導體封裝領域有其行業(yè)特殊性，相比于其余常規(guī)的電子產品對等離子表面處理的要求，半導體封裝對等離子清洗機設備的均勻性、Particle即微粒數(shù)量、UPH指標提出了更高的處理要求，所以一般都是在低壓狀態(tài)下對所需處理的產品進行等離子表面處理，所用的設備便是真空式等離子清洗機設備。
半導體封裝領域有其行業(yè)特殊性，相比于其余常規(guī)的電子產品對等離子表面處理的要求，半導體封裝對等離子清洗機設備的均勻性、Particle即微粒數(shù)量、UPH指標提出了更高的處理要求，所以一般都是在低壓狀態(tài)下對所需處理的產品進行等離子表面處理，所用的設備便是真空式等離子清洗機設備。半導體封裝行業(yè)所用的等離子清洗機設備分類方式更為細致，常見的有以下幾種方式：
按等離子清洗機設備的運行方式：可分為獨立式等離子清洗設備和在線式等離子清洗設備。
獨立式等離子清洗機設備也叫離線式、單體式、批量式的等離子清洗設備，其主要包括等離子發(fā)生系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、氣路控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、真空發(fā)生系統(tǒng)、鈑金件組成。
在線式等離子清洗機設備也叫連續(xù)式、不間斷式等離子清洗設備，在線式等離子清洗設備是在獨立式的基礎上，滿足產品處理均勻性和一致性同時，為提高自動化的程度，減少人工參與的需要而設計的。因此其主要組成部分在上述獨立式等離子處理設備的基礎上再增加了：上下料推送機構、上下料放置平臺、上下料提升系統(tǒng)、上下料傳輸系統(tǒng)、上下料撥料機構、對應的設備主體框架。
在線式等離子清洗設備是在獨立式的基礎上，為滿足對表面處理均勻性、一致性品質要求更高，以提高自動化程度，減少人工參與等需要設計而成。
按等離子產生的激勵方式分為：電容耦合即CCP、感應耦合即ICP、電子回旋共振即ECR等多種等離子清洗機設備。
按等離子發(fā)生器的工作頻率來分，又有中頻即低頻、高頻即射頻，微波這三種真空等離子處理系統(tǒng)。
不同激發(fā)頻率所產生的等離子體的特性與能量也是不同的，在這方面普樂斯有些經驗可與大家分享：當產品處理需側重物理清洗時，用中頻等離子清洗設備效果更好；當產品處理側重在化學清洗時，用微波等離子清洗設備效果更好；此外，如果產品處理是物化反應兼顧的，射頻等離子清洗設備處理效果更好。除等離子激發(fā)頻率外，電極結構、工藝氣體、真空度、處理時間等，也都是影響等離子表面處理效果的關鍵因素。
普樂斯電子10年專注研制等離子清洗機，等離子清洗設備，等離子表面處理機，等離子表面處理設備，已通過ISO9001質量體系和歐盟CE認證，為電子、半導體、汽車、yi療等領域的客戶提供清洗，活化，刻蝕，涂覆的等離子表面處理解決方案，是行業(yè)內值得信賴的等離子清洗機廠家。如果您想要了解更多關于產品的詳細內容或在設備使用中有疑問，歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
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