等離子清洗機(jī)大氣射流等離子體的發(fā)展和影響射流長(zhǎng)度的條件
文章導(dǎo)讀：大氣射流等離子體裝置有哪些發(fā)展階段？影響等離子清洗機(jī)射流長(zhǎng)度的條件有什么？接下來普樂斯就為大家普及相關(guān)的內(nèi)容：
當(dāng)前，微電子工業(yè)中用到的等離子清洗機(jī)低溫等離子體工藝仍是在真空條件下來完成的。真空條件為大面積均勻性提供了保證，但是，真空條件所需要的投入在整個(gè)等離子體工藝線的投資方面占了很大的比例。因此，為了擺脫對(duì)真空環(huán)境的依賴，在大氣壓條件下獲得均勻放電等離子體的問題在20世紀(jì)80~90年代被提到了議事日程，并在全球范圍內(nèi)形成了巨大的研究熱潮，為大氣射流等離子體的發(fā)展提供了良好基礎(chǔ)。
1 大氣壓非熱力平衡態(tài)冷等離子體射流（n-TECAPPJ）裝置的前身
20世紀(jì)90年代初，Koinuma等開發(fā)出了一種微束等離子體裝置。該裝置放棄了大面積均勻性的要求，在直徑2mm的范圍內(nèi)，采用CF(1%)/He作為放電氣體和70W的射頻功率，在硅片上本得了5nm/s的刻蝕速率。這種裝置可以認(rèn)為是n-TECAPPJ所用裝置的前身。
20世紀(jì)90年代初，Koinuma等開發(fā)出了一種微束等離子體裝置。該裝置放棄了大面積均勻性的要求，在直徑2mm的范圍內(nèi)，采用CF(1%)/He作為放電氣體和70W的射頻功率，在硅片上本得了5nm/s的刻蝕速率。這種裝置可以認(rèn)為是n-TECAPPJ所用裝置的前身。
由于其消耗的平均功率非常小，所產(chǎn)生的等離子體射流對(duì)環(huán)境以及被處理材料表面幾乎沒有什么熱效應(yīng)，因此可以將其稱為“冷等離子體射流”。射頻與高頻放電等離子體的產(chǎn)生機(jī)理是有所不同的；從應(yīng)用的角度來看，高頻電源更便宜，相關(guān)裝置的設(shè)計(jì)與制造也更間單，因此更實(shí)用，從近十年的文獻(xiàn)分析來看，這類裝置的結(jié)構(gòu)大多采用了在惰性氣體(或以惰性氣體為主摻入一些活性氣體)氣流通道上形成DBD。
2 實(shí)驗(yàn)測(cè)量得出影響射流長(zhǎng)度的條件
等離子體子弓單的速度是人們比較關(guān)心的一個(gè)問題，雖然Teschke等早在2005年就已經(jīng)指出，等離子體子弓單是一種電驅(qū)動(dòng)效應(yīng)，與氣流無關(guān)，因?yàn)樵诖蠖鄶?shù)實(shí)驗(yàn)條件下氣體流速僅約10m/s，比上述子弓單的速度小3~4個(gè)數(shù)量級(jí)，但是實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)氣體流速對(duì)等離子體子弓單所形成的射流在空氣中的長(zhǎng)度有決定性的影響。
孫姣等zui早報(bào)道了氣體流速與射流長(zhǎng)度的關(guān)系。通過采用一種焓探針來測(cè)量流出石英管的氣體的軸向流速，他們發(fā)現(xiàn)無論是氦氣還是氬氣產(chǎn)生的等離子體射流的長(zhǎng)度，在氣體處于層流狀態(tài)下時(shí)，幾乎與氣體流速成線性關(guān)系。 進(jìn)一步的實(shí)驗(yàn)研究表明，情況比該結(jié)論更復(fù)雜，除了氣體流量或流速外，驅(qū)動(dòng)電源的參數(shù)如電壓、頻率、脈沖寬度等在一定的條件下都會(huì)影響射流的長(zhǎng)度。
普樂斯電子9年專注研制等離子清洗機(jī)，等離子表面處理設(shè)備，已通過ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認(rèn)證，為電子、半導(dǎo)體、汽車、yi療等領(lǐng)域的客戶提供清洗，活化，刻蝕，涂覆的等離子表面處理解決方案。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問，歡迎點(diǎn)擊普樂斯的在線客服進(jìn)行咨詢，或者直接撥打全國(guó)統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
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